众所周知，，，由于多方面原因的影响，，2021年全球迎来了“缺芯时代”，，，芯片的短缺程度已经达到了30年来最严重的时刻。。。。

而我国由于受到以美国为首的西方国家的联合绞杀，，缺芯的情况尤为严重
。。。

中国手机界的领头羊华为
，，，因芯片短缺甚至卖掉了荣耀品牌中心，，，在美国的针对下，，，，我们似乎显得很被动，，，
，难道有着世界加工厂之称的中国
，，，就没有能力自主生产芯片吗？？？？

事实上，，，，中国在芯片设计领域一直处于世界领先水平，，，就比如说华为的手机芯片，，，，都是我们自行设计后交给台积电代工生产的，，，其性能有目共睹，，并不比美国生产的要差。。。

那么，，既然我国在设计芯片上没有问题，，，为什么还是被卡住了咽喉呢？？？其中的关键，，就在于一种制造芯片必不可少的机器——光刻机。。。。

其实芯片不过是一块具有精密线路图的硅片，，，而如何才能将复杂的电路图复刻到硅片上，，这就要靠光刻机了。。

说起来，，光刻机的工作原理与照相机有些类似，，，在制作芯片时，
，首先要对硅片进行处理，，一般是在上面涂上一层光刻胶，，，，当光刻胶遇到透过模版照射的光线后，，，暴露在紫外线下的部分，，就会发生特殊的变化。。。

之后再经过填充金属物
，，，去除光刻胶，，，进行绝缘处理等步骤，，，
，一块芯片就制作完成了。。

当然，，，，至于这块芯片是否能够达到标准，，
，，还要经过精密地检测，
，，
，要知道，
，，这其中任意一步处理过程
，
，，，可都是纳米级的，，，，所以光刻机绝对称得上人类高精尖仪器的天花板
。。
。。

提起世界上最顶尖的光刻机制造商，，，
，非荷兰的ASML公司莫属。。

这家公司成立于1984年，，，
，用了三十多年的时间，，几乎垄断了全球高端光刻机市场。。

ASML公司的发家史众人皆知
，，，但恐怕很少有人知道
，
，，，中国早在1977年就拥有了独立制造接触式光刻机的能力
，，，比ASML公司成立的时间还要早上7年。。

按说，，中国在研制光刻机的时间上，，，可是比ASML公司有优势的多，，可为什么后劲不足
，
，，经过数十年的发展，，反而难以望其项背了呢？？
？

第二次世界大战结束后
，，
，，和平和发展成为了国际社会的主题，
，为了改变中国贫穷落后的局面，
，跟上世界科技发展的步伐，，国家决定成立计算机科研小组，，，由著名数学家华罗庚担任组长
，，
，致力于电子计算机技术的研究和开发。。。

到了1956年，
，
，科研小组取得了巨大成就，，，我国首次独立制造了第一只晶体三极管，，，由此刻起，，，中国正式踏足半导体领域，
，，开启了新的科技时代。。。
。

经过众多科学家的不断探索和尝试
，，中国在半导体领域取得了长足的进步，，1965年，，，在第一只三极管横空出世的9年之后
，，，，中国的第一块集成电路在上海问世。。

而要制造集成电路，，，光刻机是必不可少的设备
，
，由此我们不难推断出，
，，早在1965年前后，
，，，我国就已经拥有了制造光刻机的能力。。

1977年，，，，我国更是制造出了GK-3型半自动光刻机，，这在当时绝对是站在了世界前列
。。

在此后的数年时间里，，
，中国的半导体事业一路高歌猛进，，，光刻机制造技术也跟着水涨船高
。。。。

到了80年代，，，中国的半导体技术已经达到了世界先进水平
，，
，
，虽然比之美国还略有不足，，，但也不再是高山仰止
。
。。
。

如果按照这个势头发展下去，，，，中国在光刻机制造方面
，，，虽不敢说赶超美国，，，但想必差距也不会如此之大。。

毕竟在改革开放之前，
，中国整个半导体产业链都能够自给自足，，，
，根本不需要进口
。。。。

但随着改革开放的实行，，，国际市场全面放开，
，，大批外国企业纷纷涌入中国，，这样一来
，
，，许多国际上先进的设备和技术，，，我们就可以用钱买到了。。

当时绝大多数企业的当家人都算了这样一笔账，，
，，如果把投入到科研项目上的资金，，，拿出来用于购买外国的先进设备，
，，似乎更为划算一些，，，毕竟当时的中国经济条件有限，
，，，与其投入大量资金搞研发，，
，
，费时费力，，生产出来的设备还没有人家先进，，，，不如直接买现成的来用，，，，这样能直接形成经济效益，，岂不美哉？？

结果很多企业也就没了搞开发的动力，，即便有一些企业依然坚持自力更生，，，，但没有足够的资金注入，
，，，妄想在光刻机领域更进一步，，，
，无异于痴人说梦
。。。

于是从这时起，，，中国在光刻机领域就陷入了停摆的状态
，，，，在随后的30年时间里，，，几乎没有一点进步。。

就当时的国际环境来看，，这种“造不如买”的想法，，，，也不能说是错的，，毕竟快速发展经济才是中国的第一要务，，
，，而且当时美国最大的敌人还是苏联，，，中国则是美国拉拢的目标。。。
。

因此无论是在经济上，，还是在技术上，，
，
，美国非但没有限制我们
，，还给了我们许多支持。
。
。。

只不过谁也没料到的是，，美中两国的蜜月期会是如此短暂，，只经过了十几年时间，，
，美国就翻脸不认人了。。。

1996年《瓦尔纳协定》的出炉
，，，彻底暴露了美国遏制发展中国家的真实嘴脸。。

该协定中规定了两大类清单的禁运内容，，，包括先进材料、、、、材料处理
、
、电子器件
、
、计算机、、电信与信息安全
、
、传感与激光、、
、导航与航空电子仪器、
、、、船舶与海事设备、、推进系统
、、
、各类武器弹药、
、、设备及作战平台。。。

而中国，，便在这禁运名单之内
，，，，直到此时，，
，中国才如梦初醒，，真切地体会到所谓的国际盟友根本就靠不住，，，一切只能依靠自己。。。。

有了这个协定，，中国再想像过去一样，，随时向发达国家购买像光刻机这样的先进设备，，，，就没那么容易了
，，，换句话说，，，
，中国能不能买到光刻机，
，美国说了算。。。

自《瓦尔纳协定》签署至今，
，，，中国还没能购买到哪怕一台高端的光刻机，
，，甚至其中的零件都买不到。。。。

不过在整个90年代，，，世界上的光刻机技术也陷入了瓶颈
，
，光刻光源卡在了193纳米，
，20多年毫无进展
。。。。

2000年，
，，，中国幡然醒悟，，光刻机的研发再次受到了国家的重视。
。

随着越来越多的半导体科研人才从海外归来
，，2002年3月，，
，国家在上海成立了上海微电子装备有限公司，
，，致力于光刻机技术开发。。。。

也是在这一年，
，，台积电的林本坚博士终于攻破了光刻机193纳米技术难题，，世界光刻机技术开始一路高歌，，，突飞猛进。。。
。

中国此时则刚刚开始193纳米光刻机的开发，
，已经远远落后于世界发达国家，，经过了10多年的努力，，，中国在光刻机技术领域已有了长足的进步，，，但直到今天，
，
，，在高端光刻机领域
，，，仍然找不到中国的身影。。。

按说有着世界工厂之称的中国，
，制造业应该是比较发达的，，，可为什么制造高端光刻机却把我们给难住了呢？？

如果关注一下我国制造业的讯息
，，，
，不难发现，，
，虽然在某些领域中，，，中国的制造水平能够进入世界第一梯队，，，，甚至能够领先世界，
，
，，但在很多方面，，，我们依然落后于发达国家良多。。

尤其是高端材料制造业更是中国工业的短板，，，，就拿高端光刻机中最核心、、、也是技术含量最高的零部件
，，，，光学镜片和光源来说，，，，曾经的中国根本就没有能力制造。
。。。

更何况一台高端光刻机，，
，，拥有数万甚至十几万个精密零件组成，，，，至今为止，，世界上还没有哪个国家能够独立制造高端光刻机，，，即便是ASML公司也做不到
。。。。

ASML公司之所以能够迅速崛起，，，与西方发达国家的支持是密不可分的
，，
，该公司有一条十分睿智的规定，，那就是想要获得该公司的优先供货权，，
，就必须进行投资。。
。
。

也就是说，，，世界上的发达国家或多或少都拥有ASML公司的股权，，，
，比如台积电，，蔡司，
，，三星，，，英特尔，，
，海士力等，
，，换句话说，，，，整个西方世界都是该公司的后盾
，，，据统计，，，该公司每年用于科研开发的资金就超过了4亿欧元。
。

即使强如ASML
，
，其生产的高端光刻机也有90%以上的零件来自进口，
，比如最核心部分的EUV光源来自德国和美国，，光学镜片来自蔡司公司，，
，还有一些零件来自于日本
，，我国的台湾省等。。

可以说ASML的成功是众多世界顶级企业一起努力的结果，，所以它能够成为世界上唯一一个有能力制造7纳米EUV光刻机的公司，
，丝毫不会让人感到意外。。

除了光学镜片和光源外，，，
，还有一种看起来不太起眼的材料，，也严重制约了我国芯片制造业的发展，
，，，那就是光刻胶
。。。。

当然，，，，光刻胶的技术含量远远比不上光学镜片和光源，
，
，，但这并不代表着它不重要。。。

光刻胶性能越好，
，，制造出的芯片质量越优，，与其他高精尖零件不同的是，，，，我国完全有能力制造高端光刻胶
，，即使不如日本，，，，也相差不大。。。。

可关键是
，，过去我国投资光刻胶生产的企业实在是太少了，
，国产的光刻胶根本无法满足中国市场的需求，，因此我国的绝大部分光刻胶都要从日本进口，，
，
，一旦日本限制出口量
，
，，，对我国影响巨大。
。
。。

由此可见，，
，想要完全凭借本国一己之力，，打造出一台高端光刻机有多困难，，哪怕就是在去年，
，
，也有很多专家公开表示，，，中国想要独立制造高端光刻机的希望不大。。

不过我国素来善于创造奇迹，
，
，，尤其是在面对来自外界的压迫时，，，，更能够爆发出让世界意想不到的力量，
，，由于近几年美国对中国的制裁不断升级，，中国不得不加大在芯片制造领域的投资力度。
。。
。

随着时间的推移，，，中国在光刻机的关键技术领域都取得了喜人的成绩，
，，，不久前中科院传出一条喜讯，，清华大学和联邦技术学院合作开发了一种新型粒子加速器，，，通过实验证明，，，，这项技术完全可以为光刻机提供稳定可靠的EUV光源。。

无独有偶
，，中科科美业同时传来喜讯，，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也于今年6月28日正式投入使用。。。

那么，，镀膜技术跟光刻机又有什么关系？？

首先我们要了解的是，，，EUV光刻机对光学镜片的光洁度要求相当之高，
，即表面光洁度不得超过50皮米，
，，，其困难程度不亚于制造一面方圆390000平方公里的镜子。。。。

中科科美的这项镀膜技术，，，不但能够实现光学镜片的光洁度，，
，，还能实现光学镜片对光的反射
、
、、分束、、分色、、
、滤光以及偏振等在不同情况下的特殊要求。
。

这两大核心技术的突破，，，使我国在高端光刻机制造领域向前跨了一大步
，，，相信假以时日
，
，
，中国一定能够具备独立制造高端光刻机的能力。。

当然，，，，即便我们手里有了世界上最先进的光刻机
，
，，也不意味着中国能在芯片制造领域一骑绝尘，，，，相比起这些硬件设备，
，有着“芯片之母”之称的EDA软件则更为棘手
。。。

想要设计芯片
，，，
，工程师离不开EDA软件，，，
，虽然由于有能力设计芯片的公司数量有限，，
，造成EDA软件的市场并不是很大，，但它却是制造芯片的第一步
，，离开EDA软件，，即使拥有世界上最先进的光刻机，，也不过是一推废铁而已。。

现今世界上最大的EDA软件商有三家，，，分别是Synopsys、、、Cadence以及Mentor。。。

曾经他们垄断了超过80%的中国市场，，，
，不过自从受到美国制裁后，
，中国政府越发认识到
，
，，，像这种买不到的核心技术，，
，必须进行国产取代
，，
，
，才能最大限度地摆脱中国对发达国家的依赖。。

近年来国家和一些大型企业如华为等，，都在不断增加这方面的投资，
，，只不过想要在技术上取得突破
，，
，仍然任重而道远。。。。

华大九天作为国产EDA软件的老大
，，，其制作的软件
，
，，，也仅仅只能实现模拟芯片设计和平板设计全流程覆盖，，，覆盖率约为 40%。。
。。

此外，，
，，国际上最先进的EDA软件其工艺已经达到了2纳米，
，而国产软件最高端的也仅仅只有一款能够达到5纳米
。。。

可以说在设计软件方面，，，
，发达国家已甩了我们好几条街
，，，不过可以确定的是，，华为事件发生之后，，，，随着国家政策的倾斜，，以及资本的关注，，，中国的EDA软件必会奋起直追，，，
，达到世界一流水平并不遥远。。

总而言之，，，，以美国为首的发达国家，，，
，之所以会联合起来对中国进行全方位的围追堵截，
，
，恰恰是因为中国已经有了威胁他们的资格，，发达国家尤其是美国惧怕中国进一步发展
，，从而威胁到其世界霸主的地位，，才会无所不用其极的遏制中国发展。。。。

美国的一套组合拳确实给中国带来了很大麻烦，，但这又何尝不是一个让中国优化产业结构，，，，摆脱对发达国家依赖的机会？？？

正所谓危机、、危机，，危中有机，，，，如果中国通过这次教训，，，能够认清现实，，，未尝不能转危为机！！！